Microfabrication of large-area circular high-stress silicon nitride membranes for optomechanical applications

Journal article (2016)

Authors

E. Serra Electronic Components, Technology and Materials - EEMCS , Trento Institute for Fundamental Physics and Application
M. Bawaj University of Camerino, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia
B. Morana EKL-Users - EEMCS
Riccardo Natali Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
G. Pandraud EKL Processing - EEMCS
A Pontin Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze, University of Florence
GA Prodi Università di Trento, Trento Institute for Fundamental Physics and Application
M. Rossi University of Camerino
Pasqualina M Sarro Electronic Components, Technology and Materials - EEMCS
David Vitali Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
M Bonaldi Trento Institute for Fundamental Physics and Application, Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division
A Borrielli Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division, Trento Institute for Fundamental Physics and Application
G. Di Giuseppe University of Camerino, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia
S. Forte EKL Processing - EEMCS , Università di Trento
N. Kralj University of Camerino
N. Malossi Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
L Marconi Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze, University of Florence, CNR-INO
F Marin European Laboratory for Non-linear Spectroscopy (LENS), Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze, University of Florence
F Marino CNR-INO, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze
Research Group
Electronic Components, Technology and Materials (EEMCS) (TU Delft)
Copyright: © 2016 E. Serra, M. Bawaj, A. Borrielli, G. Di Giuseppe, S. Forte, N. Kralj, N. Malossi, L. Marconi, F. Marin, F. Marino, B. Morana, R. Natali, G. Pandraud, A. Pontin, G.A. Prodi, M. Rossi, Pasqualina M Sarro, D. Vitali, M. Bonaldi
DOI
help_outline
https://doi.org/10.1063/1.4953805
More Info
expand_more

Published Date

2016

Language

English

Faculty

Electrical Engineering, Mathematics and Computer Science

Department

Microelectronics

Research Group

Electronic Components, Technology and Materials

Abstract

In view of the integration of membrane resonators with more complex MEMS structures, we developed a general fabrication procedure for circular shape SiNx membranes using Deep Reactive Ion Etching (DRIE). Large area and high-stress SiNx membranes were fabricated and used as optomechanical resonators in a Michelson interferometer, where Q values up to 1.3 × 106 were measured at cryogenic temperatures, and in a Fabry-Pérot cavity, where an optical finesse up to 50000 has been observed.